Diseñan un método para fabricar dispositivos de grafeno más barato y sencillo

• El método propone obtener grafeno sobre una aleación de níquel y aluminio
• El sistema impide que se creen defectos e impurezas
• Un equipo internacional con participación del CSIC ha hecho la propuesta

Una pieza de grafeno con la molécula hexagonal.

Un equipo internacional de científicos ha ideado un nuevo método creado para fabricar dispositivos basados en grafeno de forma directa que evita manipular este material. Así se evita el peligro de introducir defectos e impurezas que acaban mermando la calidad del dispositivo.

Los resultados del estudio de este método, en el que han participado científicos del Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC), se publican en la revista Nature Communications.

El grafeno, a caballo entre un metal y un semiconductor, se caracteriza por tener una sola capa de átomos de carbono colocados en una red hexagonal, según ha informado el CSIC.

Fabricación con dificultades

La fabricación de dispositivos basados en grafeno presenta algunos problemas. Se lleva a cabo mediante la síntesis de una monocapa de grafeno sobre la superficie de un catalizador por descomposición química de un gas de etileno. Después se manipula la lámina resultante para separarla del catalizador y depositarla sobre el óxido deseado.

“Esta manipulación, debido a las dimensiones del grafeno, es costosa y complicada. Además, resulta en su contaminación con defectos e impurezas, las cuales, a su vez, ocasionan un deterioro de las propiedades que hacen a este material tan interesante”, explica el investigador del CSIC Eduardo R. Hernández, del Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid.

Nuevo método propuesto

El método que proponen los investigadores consiste en obtener una capa de grafeno por descomposición de etileno sobre una aleación de níquel y aluminio.

Una vez obtenida la monocapa, el sistema resultante es expuesto a oxígeno, lo que provoca la oxidación selectiva de la aleación metálica, o más concretamente, del aluminio.

El resultado es la formación de una capa de óxido de aluminio entre el metal y la lámina de grafeno, que aísla a esta del primero.

El equipo investigador, liderado por la Universidad de Trieste (Italia) y que cuenta con la participación de científicos italianos, daneses y británicos, ha demostrado la viabilidad del procedimiento y la calidad de los dispositivos que se obtienen caracterizando sus propiedades mediante técnicas experimentales y teóricas.

“Cabe esperar, pues, que nuestro trabajo tenga una gran repercusión entre los muchos grupos de investigación que actualmente buscan sacar partido a las múltiples posibilidades tecnológicas que ofrece este material”, recalca el investigador del CSIC.